ติดต่อ
Leave Your Message

ML-NEBULA: อุปกรณ์วิจัยและพัฒนาโครงสร้างนาโนแบบหลายลำแสงด้วยเลเซอร์เฟมโตวินาที

ทุกความก้าวหน้าทางวิทยาศาสตร์ล้วนเกิดจากการท้าทายขีดจำกัด ในโลกของไมครอน ซับไมครอน และแม้กระทั่งนาโนเมตร ความแม่นยำของเครื่องมือเป็นตัวกำหนดความลึกของการสำรวจ MONO ช่วยให้นักวิทยาศาสตร์และวิศวกรทุกคนก้าวล้ำนำหน้าในการวิจัย โดยใช้เทคโนโลยีการตัดเฉือนด้วยเลเซอร์เฟมโตวินาทีที่ทันสมัยที่สุด เพื่อเปลี่ยนความคิดของคุณให้เป็นจริงได้อย่างแม่นยำ

ML-NEBULA เป็นอุปกรณ์วิจัยและพัฒนาโครงสร้างนาโนแบบหลายมิติด้วยเลเซอร์เฟมโตวินาที ออกแบบมาเป็นพิเศษสำหรับงานวิจัยและพัฒนาที่มีฟังก์ชันการทำงานหลากหลายและมีความแม่นยำสูง เหมาะอย่างยิ่งสำหรับห้องปฏิบัติการทางวิทยาศาสตร์และศูนย์วิจัยและพัฒนาที่ต้องการสลับไปมาระหว่างงานต่างๆ และแสวงหาโซลูชันที่มีความแม่นยำสูงและยืดหยุ่น อุปกรณ์นี้มีความสามารถในการผลิตชิ้นงานขนาดนาโน ตั้งแต่การปรับสภาพพื้นผิวไปจนถึงการเขียนโดยตรงภายใน ตั้งแต่การผลิตต้นแบบไปจนถึงการผลิตจำนวนน้อย สามารถทำได้ทั้งหมดด้วยเครื่องเดียว

❑ การสร้างโครงสร้างระดับไมโครและนาโนบนพื้นผิวที่มีฟังก์ชันการทำงาน

❑ การประมวลผลการเขียนโดยตรงของท่อนำคลื่นแสง

❑ การผลิตชิปไมโครฟลูอิดิก

❑ การพิมพ์หินด้วยตะแกรงความกว้างเส้นระดับนาโน

❑ การประมวลผลไดอะแฟรมแบบช่องแคบ/ไดอะแฟรมแบบรูรับแสง

    คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์

    • แหล่งกำเนิดเลเซอร์เฟมโตวินาทีแบบปรับแต่งได้ระดับอุตสาหกรรม (2)

      รองรับการประมวลผลภาพคอมโพสิตแบบหลายเส้นทางแสงและหลายจุดโฟกัส

    • ความสามารถในการปรับรูปร่างและควบคุมลำแสงหลายมิติ

      ฟังก์ชันการปรับรูปร่างและควบคุมลำแสงแบบหลายมิติ;

    • การตรวจสอบทิศทางลำแสงและคุณภาพแบบเรียลไทม์

      การตรวจจับทิศทางและคุณภาพของลำแสงตลอด 24 ชั่วโมง 7 วันต่อสัปดาห์

    • ฐานรองที่มีความเสถียรทางกลและทางความร้อนที่เหนือกว่า

      ฐานอุปกรณ์ที่มีความเสถียรทางกลและทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม

    • ระบบควบคุมอเนกประสงค์ที่มีการตอบสนองแบบไดนามิกสูง

      ความแม่นยำในการประมวลผลครอบคลุมระดับนาโน ซับไมครอน และไมครอน;

    • ระบบส่งลำแสงและเส้นทางแสงแบบปิดสนิทอย่างสมบูรณ์

      ระบบควบคุมพลังงานพัลส์ระดับนาโนจูลที่มีความแม่นยำสูง;

    • การขึ้นรูปชิ้นงาน 3 มิติด้วยเครื่องจักรความแม่นยำสูงแบบหลายแกนที่ประสานงานกัน

      ความแม่นยำในการกำหนดตำแหน่งระดับนาโนสเกล;

    • ระบบป้องกันการชนแบบ 3 มิติที่ครอบคลุม

      การประมวลผลความแม่นยำสูงของกลไกเชื่อมโยงหลายแกน

    จุดเด่นของผลิตภัณฑ์

    ภาพ

    การเตรียมโครงสร้างระดับไมโครและนาโนของพื้นผิวเชิงฟังก์ชัน

    ❑ ใช้ในการพัฒนาโครงสร้างระดับไมโครและนาโนบนพื้นผิวที่มีคุณสมบัติพิเศษด้านแสง (เช่น เลนส์โลหะ การควบคุมโพลาไรเซชัน) ด้านกลไก (เช่น คุณสมบัติกันน้ำได้ดีเยี่ยม ทำความสะอาดตัวเองได้) และด้านไฟฟ้า (เช่น อิเล็กโทรดแบบยืดหยุ่น เซ็นเซอร์) สนับสนุนการวิจัยล้ำสมัยในสาขาต่างๆ เช่น วิทยาศาสตร์วัสดุและวิศวกรรมพื้นผิว
    ภาพ

    การเขียนโดยตรงของท่อนำคลื่นแสง: การผลิตชิปไมโครฟลูอิดิก

    ❑สร้างโครงสร้างเส้นทางแสงสามมิติภายในวัสดุโปร่งใส เช่น แก้วและผลึก เหมาะสำหรับการวิจัยและพัฒนาชิปรวมแสงและเซ็นเซอร์ใยแก้วนำแสง รวมถึงการประมวลผลที่แม่นยำของไมโครแชนเนล เครื่องผสม และห้องปฏิกิริยาในระบบไมโครฟลูอิดิก
    ภาพ

    การเขียนตะแกรงความกว้างเส้นระดับนาโน

    ❑พัฒนาเครื่องมือทางแสงรุ่นใหม่ (เช่น สเปกโทรเมตร เซ็นเซอร์แบบตะแกรง) และอุปกรณ์จัดเก็บข้อมูล (เช่น หน่วยจัดเก็บข้อมูลระดับนาโน) ทำให้สามารถเขียนตะแกรงที่มีความกว้างของเส้นระดับนาโนได้อย่างแม่นยำสูง ก้าวข้ามขีดจำกัดด้านความละเอียดของเทคโนโลยีการประมวลผลแบบดั้งเดิม
    ภาพ

    การประมวลผลช่อง/ไดอะแฟรมความแม่นยำสูง

    ❑จัดหาชิ้นส่วนช่องรับแสงและไดอะแฟรมที่มีความแม่นยำสูงสำหรับระบบออปติคอล (เช่น เครื่องพิมพ์หิน กล้องจุลทัศน์) และเครื่องมือที่มีความแม่นยำสูง (เช่น เครื่องตรวจจับอนุภาค) เพื่อให้มั่นใจถึงเสถียรภาพของประสิทธิภาพและความสม่ำเสมอของความแม่นยำของอุปกรณ์ออปติคอล

    ข้อกำหนดทางเทคนิค

    รายการ

    รายละเอียด

    เลเซอร์

    เลเซอร์เฟมโตวินาที (1030/515/343 นาโนเมตร)

    พื้นที่ประมวลผล

    500 มม. × 500 มม.

    30 มม. × 30 มม.

    ความแม่นยำในการกำหนดตำแหน่ง (X/Y/Z)

    ประเภทวัสดุที่สามารถแปรรูปได้

    พื้นผิวเรียบ ทรงกระบอก ทรงกลม พื้นผิวโค้งสามมิติ ฯลฯ สามารถปรับแต่งการผสมผสานได้ตามต้องการ

    กำลังประมวลผลเนื้อหา

    การกัดเซาะที่ควบคุมความลึก การตัดแบบปราศจากคาร์บอน การเจาะรูทะลุ การผลิตระดับนาโน ฯลฯ
    การผสมผสานที่ปรับแต่งได้

    เส้นผ่านศูนย์กลางรูขั้นต่ำ

    ≥500 นาโนเมตร สามารถปรับแต่งได้ตามต้องการ

    ความกว้างขั้นต่ำที่สามารถประมวลผลได้

    ≥300 นาโนเมตร สามารถปรับแต่งได้ตามต้องการ

    ช่วงเส้นผ่านศูนย์กลางรูที่สามารถดำเนินการได้

    ≥200 นาโนเมตร สามารถปรับแต่งได้ตามต้องการ

    ความแม่นยำของเส้นผ่านศูนย์กลางรู

    ≥±50 นาโนเมตร สามารถปรับแต่งได้ตามต้องการ

    ตัวอย่างการใช้งาน

    การตัดช่องแคบแบบ 0-Taper ของเครื่องแมสสเปกโทรเมตรีขนาด 15 μm

    การตัดช่องแคบแบบ 0-Taper ของเครื่องแมสสเปกโทรเมตรีขนาด 15 μm

    การเขียนโดยตรงของตะแกรง MONO

    การเขียนโดยตรงด้วยตะแกรง MONO: ความกว้างของเส้น 0.449 ไมโครเมตร

    สำหรับชิปไมโครฟลูอิดิก (Lab-on-a-Chip) อุปกรณ์ ML-NEBULA ของเราไม่เพียงแต่สลักร่องบนพื้นผิวแก้วเท่านั้น แต่ยังรองรับการเขียนด้วยเลเซอร์โดยตรงอีกด้วย (

    การกัดเซาะไมโครแชนเนลของชิปไมโครฟลูอิดิก MONO

    การเจาะระดับซับไมครอนแบบโมโน

    การเจาะรูขนาดซับไมครอนแบบโมโน: รูขนาด 148 นาโนเมตร

    01

    contact us

    Start a Conversation

    Ready to solve your precision challenges? Fill out the form below and our team will respond within 24 hours.

    Contact information

    Address

    F1-F2, Building 4, Jianfa-Xinmei Industrial Park, No. 21 Gongtang Road, Guangming District, Shenzhen, China.

    1647831b1f9f653d5ce88b0294a12170
    yx-contact-bg